10 月 8 日消息，台湾地区半导体制造商台积电日前透露，该公司 6 纳米制程技术明年第一季度进入试产，明年年底前量产。

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台积电称，其极紫外光（EUV）微影技术之 7 纳米强效版 (N7+) 制程已协助客户产品大量进入市场。导入 EUV 微影技术的 N7+ 奠基于该公司成功的 7 纳米制程之上，为 6 纳米和更先进制程奠定良好基础。

N7 + 的量产速度为史上量产速度最快的制程之一，于 2019 年第二季开始量产，在 7 纳米制程技术（N7）量产超过一年时间的情况下，N7+ 良率与 N7 已相当接近。

N7 + 同时提供了整体效能的提升，N7 + 的逻辑密度比 N7 提高了 15％至 20％，并同时降低了功耗。台积电快速布建产能以满足多个客户对于 N7 + 的需求。

台积电表示，EUV 微影技术使公司能够持续推动晶片微缩，因 EUV 的较短波长能够更完美地解析先进制程的设计。台积电的 EUV 设备已达成熟生产的实力，EUV 设备机台也达到大量生产的目标，在日常运作的输出功率都大于 250 瓦。

台积电称，N7+ 的成功经验是未来先进制程技术的基石。台积电 6 纳米制程技术（N6）将于 2020 年第一季进入试产，并于年底前进入量产。随著 EUV 微影技术的进一步应用，N6 的逻辑密度将比 N7 提高 18％，而 N6 凭借与 N7 完全相容的设计法则，也可大幅缩短客户产品上市的时间。

台积电成立于 1987 年，是全球最大的晶圆代工半导体制造厂，客户包括苹果、高通等。其总部位于台湾新竹的新竹科学工业园区。台积电公司股票在台湾证券交易所上市，股票代码为 2330，另有美国存托凭证在美国纽约证券交易所挂牌交易，股票代号为 TSM。